Distinguished Paper Award 수상한 국민대 연구진
국민대학교 전자공학부 반도체 및 집적회로 연구실
(Semiconductor devices & Integrated circuits Laboratory in Kookmin University) 
왼쪽부터 김대환 교수, 최성주 박사과정, 장준태 박사과정, 강하라 석사, 김동명 교수, 최성진 교수

김대환 교수(국민대학교 전자공학부)가 지난 5월 22일~26일 미국 Los Angeles Convention Center, CA에서 열린 디스플레이 분야 세계 최대 학술대회인 SID (Society for Information Display) 2017 International Symposium에서 “Distinguished Paper Award”를 수상하였다. 

5월 23일 김 교수가 직접 발표한 논문 제목은 “Experimental Decomposition of the Positive-Bias-Temperature Stress-Induced Instability in Self-Aligned Coplanar InGaZnO Thin-Film Transistors and Its Modeling Based on Multiple Stretched-Exponential Functions”으로, LG Display와의 산학개발의 결과물 중 하나였다. 관련하여 김 교수는 2016년 LG 그룹 산학협동상을 수상한 바 있다.

“Distinguished Paper Award”는 SID에 제출된 논문 중에서 각 주제별 가장 우수한 paper를 선정하여 수여하는데, 보통 최첨단 기술력을 집대성하여 미래형 디스플레이를 세계 최초로 시연한 회사 논문들이 많이 선정되어 왔는데, 창의적인 아이디어를 통한 분석과 이론 정립만을 내용으로 대학의 연구진이 시상하는 것은 매우 이례적이며, 김 교수의 논문은 committee에서 만장일치로 선정되었다는 후문이다.

최근 LG Display에서 대형 AMOLED 백플레인 중심으로 양산에 성공한 산화물 박막트랜지스터 (oxide thin-film transistor) 기술은, 전력소모가 낮으면서도 차세대 고속 고해상도 대면적 및 모바일 디스플레이에 저가로 채용될 수 있는 유망 기술로 부상하고 있다. 또한 플렉서블 및 투명 디스플레이에 적합하다는 장점이 있다. 하지만 재료를 구성하는 원소가 난해하여 폴리실리콘이나 비정질 실리콘에 비해 신뢰성 열화 메커니즘이 복잡하고 예측이 어렵다는 기술적 난제를 지니고 있었다. 

김 교수 팀은 이러한 산화물 TFT의 신뢰성 열화를 해석하고, 이를 예측할 수 있는 모델을 수립 및 검증함으로써, 향후 산화물 TFT 양산 기술을 한단계 발전시키고 제품 응용 분야를 확장하는데 유용한 연구결과임을 인정받아 이번 SID 2017에서 “Reliability of Oxide TFTs” 주제에서 Distinguished Paper Award 수상의 영예를 안았다. 연구결과는 디스플레이 전문학술지인 “Journal of SID”에 open access로 소개되었다.

※ SID (Society for Information Display, 국제 정보디스플레이 학회) 
SID는 1962년 설립된 세계 최대의 디스플레이 전문 학회로 디스플레이 학계와 업계 관련인들로 구성돼 있으며, 현재 약 6,000개의 회원사를 두고 있다. 
SID는 매년 상반기에 디스플레이 관련 학술대회와 전시를 진행하는 '디스플레이 위크(Display Week)'를 개최하고 있으며, 이 기간 동안 최신 논문 발표 및 첨단 디스플레이 제품/기술이 공개된다.